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芯片清洗用水凯发app官方网站的解决方案-凯发app官方网站

文章来源:未知   发布时间:2013-06-20 15:09

我公司可提供芯片清洗系统和水处理技术,帮助企业实现高经济运行,节约成本,只有用高纯度的水才会生产出优质的芯片,为企业带来更大的利润。

芯片清洗用水概述

芯片清洗用水、半导体封装用水设备、引线框架、集成电路、lcd液晶显示器用纯水、导电玻璃超纯水设备、显像管、线路板、光驼信、电脑元件、电容元器件等工业用纯水。 太阳能硅片纯水处理,pcb超纯水,半导体led超纯水处理设备,电视机纯水处理、录音机水处理,为满足用户需要,达到符合标准的水质,尽可能地减少各级的污染,延长设备的使用寿命、降低操作人员的维护工作量.在工艺设计上,取达国家自来水标准的水为源水,再设有介质过滤器,活性碳过滤器,钠离子软化器、精密过滤器等预处理系统、ro反渗透主机系统、均设有压力保护装置、在线水质检测控制仪表、电气采用plc可编程控制器,真正做到了无人职守,同时在工艺选材上采用推荐和客户要求相统一的方法,使设备与其它同类产品相比较,具有更高的性价比和设备可靠性。

芯片清洗

芯片清洗用水的优点

在设备设计上,采用成熟、可靠、先进、自动化程度高的两级ro edi水处理工艺,确保处理后的超纯水水质符合要求,水利用率高,运行可靠,经济合理。关键设备及材料均采用可靠产品,采用plc 触摸屏控制,全套系统自动化程度高,系统稳定性高。大大节省人力成本和维护成本。使设备与其它同类产品相比较,具有更高的性价比和设备可靠性。

我公司会根据客户的具体需要设计出合理的清洗设备,再加上我们强大的技术服务团队,会更好的为客户解决技术上的问题,想客户之水想,及客户之所急。我们的专业,是您有利的保障。

芯片清洗用水的工艺

1、预处理 阳床 阴床 混床。

2、预处理 (单/双级)反渗透。

3、预处理 (单/双级)反渗透 混床。

4、预处理 (单/双级)反渗透 edi电除盐。

芯片清洗用水的技术特点

1、超纯水专用膜

    采用膜表面高分子嫁接技术,产水toc在20ppb以下,更适用电子级超纯水系统。

    高toc脱除率、高抗污染能力、低toc溶出率,toc达标冲洗时间短、先进配套电源技术,能耗更低。

2、去电子(cdi)技术

    离子交换树脂再生不需要使用昂贵且有危害的化学品,降低了能源和运行费用、设施的大小要求。

    采用新型均匀述职树脂包填充,有效提高脱盐率。

芯片清洗用水的标准

1、astm-d5127-2007《美国电子学和半导体工业用超纯水标准》

2、欧盟电子级超纯水标准

莱特莱德资质

 

编辑:莱特莱德
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